EUV Enablement: Solving Defect Challenges
ฝัง
- เผยแพร่เมื่อ 2 มี.ค. 2021
- Animation shows why extreme ultraviolet (EUV) lithography is replacing 193 nm immersion (193i) lithography for more and more critical chip layers, and how relying on improved filtration methods can help reduce defects. Learn more. bit.ly/30aL08c.
- วิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี
Wow