K1的進步,如離軸曝光,相移光罩等, 浸潤式曝光機主要是ASML與台積電聯合開發,原理是台積電的林本堅提出的,浸潤式曝光機剛開始問題很多,如bubble問題~其實對foundry來說,那些紙面參數都只是好看,最重要的是穩定度與WPH(wafer per hour),能不能賺錢就是看WPH!不然中芯能做7nm製程靠LELE與SAQP硬做,財報出來獲利慘兮兮,就是良率低到不適合量產硬做的證明,如果沒有政府的支持早就倒了~半導體業大者恆大是因為挑戰太高,研發出問題無法回收會倒閉,在設備業與晶圓代工業都是如此,不然聯電與GF不會在14nm就打住,因為投資後會巨虧!現在連Intel都巨虧,三星良率不行,大家都有一樣的設備,但是就只有台積電做得出來,製程的know how有其獨門秘技~現在HBM要靠台積電的COWOS才能與CPU整合,連三星都開始低頭找台積電合作了,三星的先進封裝贏不了台積電...
这个制程范围内的芯片需求量巨大，希望可以通过芯片的量产为技术的进一步提高提供充分的资金支持，实现芯片制造工业的良性循环。
先在成熟制程抢占市场，逼迫竞争对手退往高端市场。在成熟市场站稳后，再向高端市场冲击。
以后所有设备都给他垄断了 让别人无路可走 礼尚往来
对的，工业，汽车等领域没必要用更高端制程的芯片，稳定可靠才是王道，一整套电子领域的大国重器和电子工业基础底座将要呼之欲出了！
全球最大的芯片需求市场就在中国.尤其是新能源车
哈哈
BP机爆炸说明，自主可控不是谁的玩得起的
又不是电池爆炸，这是炸药爆炸。是运输过程中被塞入了爆炸物。
@@fannewman4916 原因就是供应链不可控。
@@leostestx 不是供应链问题。是进口的成品被人拆解，装上了炸弹。
@@fannewman4916 明明可以设计得更紧凑，为什么设计成可以装下爆炸物？🤔
@@foxhello9716 你可以参考各国各公司生产的家用电话，问问他们，明明可以设计的更紧凑，为什么设计成可以装下爆炸物？🤔
魅族手机前CEO李楠也认为，国产28nm稳了，再向上提升任重道远。
从0到1难，从1到100速度就会明显加快，经验和技术是在实践中累积的。
後發優勢,可以更快.就看mate70了
@@呱_让世界看到丸完后发优势压根没怎么吃到，全在制裁，限制技术流入国内。后发优势在这不适用
冷知識,抬把子吹得天花亂墜的美積電根本就不是台企,而是像上汽大眾類似的合資企業,都是外資占大半,賺到的錢不會分到本土頭上,這就解釋到為什麼台灣大學生寧願潤去柬埔寨打工也不願意留在本土🤣
@@user-urwedfvftgfr228 台湾大学生到柬埔寨打工?民进党太强了，能把台湾年轻人忽悠到这种程度。到大陆去工作明明会各种照顾，却跑到柬埔寨。
这里没有轻视柬埔寨的意思啊。
@@七七-b6o限制技术，但是限制不了人才流动呀！😂
套刻意思是多次光刻和刻蝕，
良率夠就可以 先保障中國被美國全面斷供晶片 還有自製晶片供應 再努力超越台積電就好
@@蔡慶海 那難如登天了~ 因為美日和決定這個月動手掐調耗材跟檢測設１備
@@鄭先勇 中國的全自製 沒有一個零件耗材用到西方的聽不懂意思???美日早對荷蘭出口到中國的光刻機限制耗材 還在這個月
@@蔡慶海 哈~這麼著急啊
如標題所示:中國28nm?
這明明是65nm級別~雙重曝光也才到45nm.....🤣還28nm咧😂
還有~你搞不清楚第三地出口到中國嗎?(韓國.台灣.新加坡.馬來西亞)
加緊收緊缺口😄
@@鄭先勇 誰說要西方製程模式才能生產晶片????雖然才65奈米分辨率 再幾年就追上台積電了
工信部这条消息的最大意义是表明，中国已经成为世界上第一个能不依赖其他国家元器件而独自完成光刻机制造的国家。DUV出来了，EUV也就不远了❤
日本的尼康和佳能表示不服。
乾式和濕式差一代。濕式DUV 和EUV的差異是乾濕差異的十倍以上。
@@李大爷-p1d 你别不懂装懂胡扯，日本的尼康和佳能光刻机根本不是DUV/EUV技术类型 🤣
@@李大爷-p1d 尼康佳能的光刻机的一些关键部件不是日本产而是进口美国和欧洲的。
@@alexc2713 光刻机是人造的，不是神造的。
中国突破是迟早的问题。
跟汽车一样，只要中国入场，未来全世界都将落后。
等了一天,終於等到大劉解說
半導體設備我是不清楚，但是，有時候看了用了歐美設備會覺得許多東西是多此一舉，就像手機一樣，功用一大堆但是真的很沒用。中國人若是真的要做相同設備一定會改進的。希望光刻機的國產貨應該也會更加改進吧！
Agreed
谢谢你们的嘲讽和蔑视，中华民族将继续默默努力。❤❤❤
选择远大于努力，人如此，国运更亦如此。
@@cripple2578牛头不对马嘴
@@cripple2578确实，没有台湾人，哪有现在的
在世诸葛@@cripple2578
@@cripple2578 做选择很容易，但是选择了并且实现了，目前全世界唯中国尔。其它都是选前口嗨，上任后遗忘的货。
任重而道远，但实现了从0到1的突破，有了1的突破就等于是希望的萌芽，长成苍天大树只是时间上的问题了。加油中国！。
最近美国政府与智库，连续发表关于中国AI与高技术调研报告，对中国高技术关注的有心人，可以去找来看看。中国凭一国之力，完成制造芯片产业链，具备真正超越美国的实力，同时中国全要素，全产业链，全技术人才的制造产业链生态圈，这才是让美国等西方感到恐惧的实力。
美国知道，中国在一个一个的挖掉它的墙角，等都挖的差不多了，就是轰然倒塌。目前来看，美国没有任何能力和实力来阻止这一进程，包括直接的军事冲突。
蘇聯就這樣過一次了，他們也沒怕過，我感覺是別的問題。可能還是沒有公民自由的問題。
@@hyy3657 中国公民没感觉那里不自由，如果是胡说八道的自由，那是真没有。
@@hyy3657中国没有蛙省造谣的自由
一直在模仿从未超越
能公开的都不是最先进的，这策略一直是有效，俗话说你家里能看到一只蟑螂，说明你家已经的很多蟑螂了
光刻机可不是蟑螂这种坏东西啊😢
好东西，大政绩它能忍住不宣传？照这么说，你的孩子高考考上了清北，你藏着掖着不让亲戚知道，当亲戚知道他在清北时，他一定已经当上清北教授了😂
形容的很好，下次别形容了😂
@@南極洲洲長揪掰燈 又不是选举制国家，需要宣传什么政绩啊。跟中国公开军用飞机的研发进展一样，从来都是能公开的都是已经列装部队的，后面至少还藏了两代更先进的不会公开。
@@南極洲洲長揪掰燈虽然他比喻有问题，但是这是两年前的产品了，现在开始推广而已😂
@@南極洲洲長揪掰燈 被打压的太严重了。 之前中国超级计算机霸榜多年，然后就是美国禁售至强cpu给相关单位。现在中国已经很多年不再公布超算参数了。
有方向，有基礎，就快了
真不错，自研和全球多国联合研制比，短短数十年奋起直追
K1的進步,如離軸曝光,相移光罩等, 浸潤式曝光機主要是ASML與台積電聯合開發,原理是台積電的林本堅提出的,浸潤式曝光機剛開始問題很多,如bubble問題~其實對foundry來說,那些紙面參數都只是好看,最重要的是穩定度與WPH(wafer per hour),能不能賺錢就是看WPH!不然中芯能做7nm製程靠LELE與SAQP硬做,財報出來獲利慘兮兮,就是良率低到不適合量產硬做的證明,如果沒有政府的支持早就倒了~半導體業大者恆大是因為挑戰太高,研發出問題無法回收會倒閉,在設備業與晶圓代工業都是如此,不然聯電與GF不會在14nm就打住,因為投資後會巨虧!現在連Intel都巨虧,三星良率不行,大家都有一樣的設備,但是就只有台積電做得出來,製程的know how有其獨門秘技~現在HBM要靠台積電的COWOS才能與CPU整合,連三星都開始低頭找台積電合作了,三星的先進封裝贏不了台積電...
@Mems12342华为自己造的芯片跟中芯有什么关系？中芯是因为添置设备才不好看罢了，至于技术举例台积电与三星？为什么不举台积电与英特尔?认为技术能永恒领先不过是一厢情愿罢了，你台积电能超越别人别人就不能超越你吗？在者说了韩国与台湾在基础科研根本没有什么建树?拿什么跟我们半导体全产业链对比？
我比較想知道全球究竟有幾個國家能做出這台光刻機。
日本佳能目前還在Arf乾式、NIKON年初發表Arf沉浸式。
德國蔡司沒做光刻機，他專做光刻機鏡頭，剩下就是荷蘭ASML。
能力方面不好说。但现实中独立制作的只有中国。包括荷兰日本在内其光刻机都用多国零件。
@@TheHongbu 現在正常國家多國零件正常。如果不是被封鎖中國也不用自己單幹。
能做出來就算他們過關。
@@張夢萊真的！歐美要幹我們中國，就要有被中國人幹回去的心理準備
@@張夢萊 所以说，这种打压真是可恶，已经发明的东西，非要强迫中国人再去做一次，浪费了许多顶级的的人力资源。
目前加上上海微电子，能做光刻机的就四家，但是佳能的水平比较落后，目前还没有达到这个水平
路透社妥協顧問公司拆解華為pura pro 70 芯片9010不是asml 做的, 彭博社和日本半導體公司也是這樣說，也証明了中國巳經有浸潤式光刻機了，現在又故意在轉移視線嗎？
Mate xt 第一批就推出一百萬部，就証明了良率巳是不錯，
這個就是重點,很多人都沒理解過
华为的技术肯定比推广目录上的先进，工艺可能是不一样的。推广目录是很成熟的技术的推广，整体提升产业技术水平。
可以肯定麒麟芯片该是ASML光刻机生产的，国产还不能挑大梁
华为是民营企业，国家推广的是保底的最后退路。根据华为的表现，稳定生产14纳米的技术肯定早就有啦。
@@JW-bx4su 干式光刻機只可做32nm 製程。工信部公佈的機種套刻是低於8nm, 事實上，台積電技術套刻低於8nm巳是5nm芯片
對於我這個 生長在台灣 關切大陸科技發展中國人來說，各個自媒體 我只相信大劉 公正客觀的分析 ，並且 雖然我們光刻機還不到世界水準，但只要造出來 就是突破，但願我們中國人的科技不斷提升
肯定会不断提升，中国一年投入上万亿人民币发展科技
th-cam.com/video/3UmWqtmpljA/w-d-xo.htmlsi=4WId0jNtRcoYoiXD
台湾人本来就是中国人。唉。整得现在看着一个认同自己是中国人的台湾人都觉得像很大的稀奇事一样了。
兄弟😊
能大大方方公开出来的机器，绝对不可能是目前能制造的最先进机器。重大工业设备，应该会跟军用飞机一样，能公开的都是已经列装部队的。浸润式的光刻机按这个逻辑，已经开发成功但是还没到干式机一样可以公开展示的程度。至于EUV光刻机，也许还在试飞阶段，没有最后定型，或者某些关键技术还需要再完善一下。3年之内国内能独立制造3纳米芯片，是极大概率的事件。
因為是本土製造的機器，大小就不用受海運裝箱的限制，可以造大一點
这台就是三年前，上海微电子的那一台。已经是三年前了
别贴了，这个又不是很差，出手就65nm已经很厉害了，非要吹没意义。照你说法，中国还有比C919更好的商用大飞机未公布？
参见mr Question 的频道
@leostestxC929
关键点是，现在国家应该是euv和duv两条腿走路，可能还有多家厂商并行。
28纳米可以量产，就是0到1的破局。以中国当下的工业制造和技术的迭代能力，每3~5年就可以上一个台阶。所以快则15年、慢则20年左右，基本上就可以追平与最先技术水平之间的代差。
也许用不了那么长时间，从2019年被制裁到2024，只用了五年，我觉得也许再有十年就能赶上或者超过。
0-1 不是中國人在做的事情 28奈米光刻機
世界已經出現多久了?
@@ST-hy1mf 蛙脑就是蛙脑，0-1的说法在大陆适用，而且是自己独立实现，你酸也没用，菜蛙除了会叫，其他做不了，哈哈~
我曾经猜想：自从美国对中国先进技术制裁后，我国需要经历20年时间才能追上当时的技术，现在看来并不需要那么长的时间。
不太先進,可以公開😊
向来是量产一代，隐藏一代，研发两代，规划设计两代
28nm以上意味着除了少数需要追求高端且节能需求外，98%的实际需求实际上都可以满足了，计算力的提升其实也能通过牺牲能源来弥补，比如服务器矩阵。要知道现在还有不少芯片还在用微米级别的。
已经实现了0~1的突破，以后会越来越好的。加油，中国人！
0-1 不是中國人在做的事情 28奈米光刻機
世界已經出現多久了? 客觀點
@@ST-hy1mf 看不懂中国字？我什么时候说世界了？是中国实现0到1的突破。世界关我啥事，我只关心中国。
@@ST-hy1mf ASML是有更先进的光刻机，但美国爹不让它们卖。至少我们中国实现了普通制程的自给自足，全世界也只有中国凭一个国家的力量造出了光刻机。
@@ST-hy1mf 啥？哪个国家靠自己做出来的？全产业链懂不懂？
多弄一些把光刻機白菜化。。重點是國產替代和其他友邦電子產品的替代，不用最先進。。但要便宜。。
友邦都朝伊俄這種粗大的技術，指望不上啊
@@hyy3657 包不包括全世界140多个国家最大的贸易对象是中国？还是都跟台湾一样，从中国赚最多的钱还天天指着中国的鼻子骂，你以为这种关系会长久？
干式牛排比一般牛排好吃，但是干式光刻机应该不如浸润式光刻机。革命尚未成功同志还须努力。。。加油
沒那麼久，浸潤式系統，超潔淨流體控制，中國幾年前已經攻克，只是先裝ASML老機台上用，不信自己查，如今只要裝上改改控制代碼而已。為什麼這麼說，因為ASML 1980Di也只比上代多加一個"超潔淨流體控制"而已。
是浸润式5nm
th-cam.com/video/3UmWqtmpljA/w-d-xo.htmlsi=4WId0jNtRcoYoiXD
@@許明陽 这个应该不好攻克吧，不够就算暂时没攻克也可以了。进度已经很快乐
分辨率65纳米, 线宽是它的一半, 就是32纳米, 因为刻蚀的过程, 线宽会变小, 达到28纳米
為什麼只用水？ 為什麼不用其他折射率更高的液體？
虽然和最先进制成可能还有10~15年的路，但这事就是成功后还是很有震慑力的。
1450 什麼都不懂，但自己覺得話比研究專家說三年更厲害
哪里用的了那么久。一通百通的，何况EUV已经被证明是一条可行的道路。关键还是第一个从零开始的研发产品，成功以后，正常迭代加上适度投资就可以了。
@@techbuss-wm7dn你在前進別人也在前進，10年還行吧
@@xxz_zzz 中國的 euv 光源設備技術都巳註冊。
@@koik1208 现在最先进的是在研究的2nm,再往前面除了1nm还可以想想，基本已经到头了。这个技术要结束了。谁都不可能继续前进了。再小电子就都穿透了，都是导体，没有半导体的功能了。因此这个技术基本就要到头了。没有什么10年的事儿了。这个技术最多5，6年，大家就要去玩别的了。
预祝中国芯片越做越大，实在不行还有大国工匠可以用手雕刻😂😂😂😂😂
台巴子的逻辑就是我认为是就是，叫吧，你叫不了几年了，哈哈~~
其實進程己經很厲害，中國由開始研發光刻機只不過二至三年，還有他官宣即是己經可以出機售賣給廠商來用，以投入那麼多人力及資金，有了一部初級機，未來進展可能很快就有更強版本，科技是由人材及鉅量資金硏發出來的，沒有甚麼是不能造出來的，只要時間來進步。例如太空空間站，美國不讓中國加入，現在不是有了嗎。中國最大優勢就是內需大，看美國不敢不賣高階晶片給小米，vivo等手機廠就知道，全面禁賣的話，台積電代工高通的晶片賣給誰？
上海微電子已經20多年了喔
@@hyy3657 但真正得到大力发展还是这几年而已，以前缺资金缺技术缺市场缺人才
研發2字改抄襲吧
@@markfreshwater3338 台湾连抄都不会抄，中国至少有自己的光刻机，台湾除了会代工还会啥？小岛寡民口气倒不小
宁可性能差点，也不愿被炸脖子和炸腰子，坚决支持国货！
所以，苹果在中国的没落速度，会比想象的快很多。
@@johhw_6432 蘋果是中國製造吧。。。
人家也是買非西方產品才被炸，要是用蘋果搞不好沒事
@@hyy3657 美国设计的不行了。
除了手机有极致压缩空间的需求，其实目前市场上绝大多数电子产品都不需要28纳米以下的芯片，自己先做出来，从无到有，从有到精，总是需要一个过程，首先把28纳米以上的产业自己吃掉再一步步升级。
光刻机之所以难，是因为没有一个国家能够完成所有零部件材料的制造，是例如德国的光学材料，日本的光刻胶等，所有国家的顶尖技术放一起才能让荷兰造出光刻机，我们目前光刻机精度差点，但我们是从头到尾光刻机所有的零部件材料都是自己的，全产业链，先把成熟制程芯片的市场打下来，高阶制程在一步步研发，十年后看看能不能追平asml
都是自己的，是一把双刃剑
不参与国际合作，就永不何能。做出来了也是砸锅炼钢的故事。如此简单的市场经济规律几代人都学不会。
@@cripple2578 这是被逼出来的，懂吗！
@@yongli4304 不是的，这是自己一步步的选择。跟当年的德国一样，举目皆敌，在奋斗中感动自己，觉得全世界皆醉我独醒，自取灭亡。 一个无法融入世界的 民族注定是悲伤的故事。
@@cripple2578 你让欧美解除制裁再说。空间站也是一样。国际空间站不带中国玩，中国只好自己建咯。
恐怕连28都没有，不过上海微电子那台还没交付的浸没式光刻机应该能达到14纳米
是浸润5nm
th-cam.com/video/3UmWqtmpljA/w-d-xo.htmlsi=4WId0jNtRcoYoiXD
簡言之，成熟製程的DUV光刻機已實現國產化，接下來要實現EUV高階製程光刻機國產化。祖國的逆向工程很厲害的，畢竟中華民族的智慧積累五千年了，突破逆境的洪荒之力是刻在DNA裡的。🎉🐉🎉
逆向工程你可以理解为一个学习的过程，而不是终点，其重点在于掌握一门技术的关键要数。在这个基础上，你就可以增加一些你自己的想法，也就是创新。最难的是0到1的突破。而从1到10通常是一个线性的过程。
EUV中国的数量是，0台，压根买不到，唯一一次买到了，以厂房失火为由不给货，直接退款。机器都没有怎么逆向？
@@AuroreDruid 前幾天euv光源有專利了, 買不到就買不到, 不自己做你覺得誰會教你?
@@rilrex2219 你回错人了吧，我就是反驳层主说中国光刻机靠逆向工程，至少EUV肯定不是。
28纳米的风声5年前就有了，估计那时还是实验室产品，现在开始试生产。不容易啊，赞中国科技人员的不懈努力。
不是试产，是小批量量产
是5nm
th-cam.com/video/3UmWqtmpljA/w-d-xo.htmlsi=4WId0jNtRcoYoiXD
”任重道远“这个词听几十年了，我觉得改成只争朝夕更合适。
因为任重道远，所以只争朝夕。其实这是一件事儿的两个方面。
@@songsung8805我觉得给人的感受不太一样，任重道远会给人种消极感。
只要持续开发，成功仅仅是时间问题，5年、10年都无所谓。总比处处受人掣肘要好
亦步亦趨向陽路，中國加油🇨🇳
在推广目录里，就说明已经量产，并且达到了某个销售金额。
看来用不了多久美国又该埋怨中国光刻机产能过剩了😂
但也可能要十年，半導體沒有捷徑
@@hyy3657
@@hyy3657
@@hyy3657 最多三年。
万事起頭头难，今天祖国光刻科技上能夠自組研发，真是大喜！將來必然能走到世界尖端。毛主席：从戦爭中学習戦爭，记得中共成立之初，戰鬥机1台也沒有，如今是航天大国。
台湾能造光刻机吗？
不能
浸潤式光刻機是臺積電 林本堅發明的!
@@austinwffly2136 您说的应该是 搓 这个动词
@@austinwffly2136 你是打算用牛耕几亩地铺设电缆当芯片吧
@@farmer9894得了吧蛙蛙又往脸上贴金，浸润式光刻是1984年日本人Takanashi的专利，只是受限于当时的技术无法实现
中国ArF 光刻机是28纳米的浸没式DUV光刻机，是2023年6月量产。经过国内外专家拆解9000S和9010这两款7纳米制程芯片，都不是ASML设备制造的，也不是日式设备制造的，那就一定是用中国28纳米的浸没式没式DUV光刻机制造的。中国28纳米的浸没式DUV光刻机应该对比ASML的NXT: 2000i光刻机，不是1980Di光刻机。如果中国28纳米的浸没式DUV光刻机都不能造出来，何谈EUV光刻机？中国的EUV光刻机应该在2026年初试产，2026年底量产。
自媒體看多了
现在的duv不是如期实现了吗？
大刘还是藏了点，其实压根不是asml2017的水平，而是2006年，asml 就有同样参数的光刻机了！！
那只是細部參數不同，會對標1460，基本上是因為""發展條件不同""，中國不可能拿20年前電機控制技術來做，而且過去18年已經發展出許多工法巧門，能讓目前機台可以碰到28nm門檻。還有一個重點，1450機台二手是買得到，中國推出的參數也明顯不同於1450，難道要抹黑抄襲嗎??。。。工信部已經證實，確定掌握DUV工藝，剩下改進只是時間問題。
(浸潤式系統，超潔淨流體控制，中國幾年前就做到，跟ASML發展過程完全顛倒，如今乾式機出來，沒道理浸潤式做不到。。。。)
@@許明陽 最乐观的情况，28nm出来了，还是落后国际先进水平5-6代呗！慢慢追吧
5nm的麒麟9000S芯片都做出来一年了，5nm的不带ASML对准标志的麒麟9010芯片都做出来半年了，中国现在的光刻机什么水平还推导不出来吗？DUV光刻机就是ASML浸润式DUV光刻机的最高水平，只是可能还没有所有零部件实现国产化，科技战中也不宜公布，公布的推广目录是全国产化的成熟制程设备，生产5nm的设备怎么可能现在公布呢，用脑子想想，你和别人打仗时，你把最先进武器参数告诉对手，尤其是这些武器还有部分零部件来自进口的情况下，可能吗？
@@shawnwang9832 就是因为技术不过关啊，你华为的 所谓5nm芯片得卖7000人民币啊，同样性能的别的品牌手机，用进口芯片，几百块就买到比麒麟9000s性能还好的手机了。
@@ionfish1343 这才科技战几年时间啊，让子弹飞一会儿
而不是一味地让那些所谓的“专家”谈论芯片制造工艺。 这是行业专家的正常芯片制造流程！ 光刻机和刻蚀机是芯片等现代大规模集成电路生产中不可缺少的设备。制作芯片的基本原理就是利用这两种物质的特性。 用光刻胶覆盖金属表面，然后用光侵蚀光刻胶，然后用化学物质浸泡。 因此，金属上有光刻胶的部分不会被侵蚀，但没有光刻胶的部分就会被侵蚀。 结果，金属表面形成了我们想要的形状。
这两种工艺分别称为光刻和刻蚀，对应的设备就是光刻机和刻蚀机。另一方面，这可能无法阻止那些付费宣传人员试图迷惑公众！
很多人误解了，28nm光刻机指得是分辨率达到28nm的DUV, 是目前市场主流产品，中国还没有（只有63nm分辨率光刻机而已），所谓的8nm是图像 从图案印到硅片时的误差值，不是8nm芯片
正确的说，是推广目录上没有。
请问华为的7nm芯片咋做出来的？
这都推广阶段了，谁都可以用，最先进的不用推广，都是指定客户！
你怎麼就知道誤解了呢, 誰告訴你了? 套刻意思是多次光刻和刻蝕，
@@atehe9589 梁孟松用asml的机器日本的材料做出来的
你是不是把套刻精度和制成精度搞混了，如果按照纸面数据，要做8纳米，那样基本就需要3次曝光，问题这个套刻精度，起码是需要1.5nm 才能做规模化生产。 这台机子基本上做就不可能用来做finfet，除非不考虑成本。
确实牛逼，国外才到3，我们已经28了，遥遥领先
😂不是拉屎的活都得用3奈米。😅
估计又让你失望了，更加先进的光刻机正在调试中。
人家国外还有爆炸功能呢，奢华
沒關係，四年以前更絕望，沒想到這麼快就造出來了，現在衹要有了這東西中國的基本工業體系就可以不受影響了，後面就是砸錢砸人才就行了，路徑是明確的無非就那麼幾條，投入一萬人不行就十萬，別人十年幹的事情縮到五年兩年也不是不可能
哪来的3纳米?把我们当白痴?改了定义我也可以叫3纳米甚至0.3纳米，玩改定义的把戏罢了
28。20。14。10。7。雖然還要好幾年，但想想美國的英特爾搞不出來，搞的自已都要賣掉了！0-1是最難，1-2-3是比較不難的
原來（超純水是用在這裡的，難怪公司之前賣了不少超純水，很貴就是了）
我就想问问，这个所谓中国28纳米光刻机的突破，是突破在哪里？！这个28纳米的光刻机是100%使用了所谓国产元器零部件，是吗？！任何一代的光刻机技术体系和结构体系都是欧美日搞出来的，中国通过模仿抄袭搞出所谓28纳米的光刻机，距离世界领先水平还遥遥无期。不过是模仿抄袭都能弄出优越感来，自我高潮迭起。呵呵！
突破的是自己
@@zzx2879 自我意淫的颅内高潮。
大刘的流量主要是以粉红为主。 看看就好了！
不100%美国还给你供应?脑子呢？
呱呱呱，伥鬼，夏虫，井蛙指的就是你这类
这就是主席的功劳。主席大力推进光刻机研发。在主席的主导思想引导下。我国的光刻机再创辉煌。只有政治不走偏。中国才能成为科技强国。世界强国。科学家固然重要。但背后的主席掌舵领航更重要❤❤❤❤❤
我一个粉红看到都肉麻，这是科技工作者，政府官员一起的功劳
低级红就是高级黑。
好酸
也有你这种东西的功劳，没事闲的蛋疼瞎逼逼，给科研人员当乐子
不要去酸中国工业化，中国工业化至少让10多亿人口脱贫，还能帮忙建设南方国家让更多国家劳动人民提高生活水平，中国是社会主义国家。
大跃进时，亩产万斤，这次芯片大跃进，不排除吹牛逼，交作业嫌疑
什么都不懂没问题，可以看看华为和长江存储，这两家严格被制裁，拿不到先进光刻机，事实上长江存储现在就是用的国产光刻机制造的。
你家大跃进能做出麒麟芯片？？
吹你大爷 ，中国人可不是盖的！
@@Garfieldhao你家大跃进后就死几千万😂
就目前华为几千万量产芯片你给跃进一个出来哇
如果能用国产光刻机，正常批量做出28nm芯片，就可以算突破。
但现在还看不出。
经常说，差几年，差多少，攻关什么，是个错误观念。
从光刻机的发展过程就能看出，主要是基础牢不牢。
基础牢，突破起来就相对容易。
如果能用国产设备实现28nm芯片的量产，就说明基础比较牢了。再往上突破，就可以用攻关这种词来形容。
好好吹，吹牛不上税😂
不装我难受怎么滴？
我好开我好快乐，尤其看到台蛙气疯的嘴脸，哈哈~
加油。
1450不懂工业加工体系！以为这个东西是十几年前的技术 以为中国还需要10几年才能追上！？这明显就是工业小白说出来的话！实际上这个光刻机是 现阶段最先进EUV的基底！你可以理解为EUV光刻机是 有涡轮增压和 氮气加速的跑车！跑车都能造了 涡轮增压和氮气加速实际上就是锦上添花而已！asml用了十几年走到现在是因为整个研发结果是不确定的。而中国浸润法和极紫外光源和光刻机三项是同时在研进的！也就是说在现阶段可以肯定的是已经在尝试EUV光刻机的组装了！以之前的速度推算最多2年了！3年内3纳米肯定会量产！只能说留给台积电的时间不多了！
💨🐂
套刻意思是多次光刻和刻蝕，
再加一个，这个爆出来的自己跑了两年了，现在湿式跟euv在同时在跑，我期限放宽点吧，5年内这个明珠将被拿下😂，现成的东西都有，照着抄有中国做不成的东西？不存在的
@@rilrex2219 你纠结这个没有意义！对于中国来说最难的从来都是光刻机本体的构件的加工精度，和运行时的运行精度！对中国来说最难恰恰就是这个干式DUV！侵润式和EUV不过就是加了两个功能罢了！相当于狙击步枪已经有了！瞄准镜和消焰器也都一直在同时研发！现在就是差在把他们三个拼在一起然后实现更高的狙击的准确度！事实上现在应该已经在一枪一枪的尝试了！所以1450觉得好像没什么！但是美国和荷兰真的如临大敌 ！因为可能下一秒EUV就完成了！根本没有什么所谓的10年的差距！现实可能连一秒都没有！
@@恐怖现实的小宇宙其實有報導，中國在 euv各主要設備大多已追上先進水平
应该是量产28，套刻8以下。结合分析华为的手机，应该不会错。
其實多謝美帝制裁😂加速自住研發光刻機及芯片😊要追趕中國最叻的🇨🇳加油了💪🏻
赞一个。
最简单的看一平方毫米有多少上晶体管。
依照中國政府一貫保守的個性來推測，不僅28nm已實現量產，更先進的應該已在路上，任重而道不遠矣！
真的是這樣，中國經濟已經這麼爛了，失業率也這麼高，房價腰斬又腰斬了，為什麼還要繼續憋大招？拿一些出來經濟不就好轉了？
@@dhh523你个傻货脑子被洗傻了，中国经济差要崩溃啦，一看成长率5%，欧洲法国德国基本就是1%，美国2%，台湾也就2%左右，我们经济不行是跟我们以前比，不是跟你们这些驴马烂子比ok
@@dhh523 这个一般就刺激到美国 全拿出来美国要发疯 要考虑一下美国的感受
@@陈建-p8x啊？
一三五中国💊二四六中国威胁
ASMEL 是集成了全世界发达国家的技术，而且比中国先跑了几十年。中国追赶的速度真是太棒了。
1-100遠比0-1簡單不只一個層次
做光刻機太耗精力了，中國真不想做，賣就很好。但是有些國家就是不希望別人發展快，非得搞封閉。
干式光刻機只可做32nm製程，華為pura 70 7納米巳被証實不是asml 光刻機做的，所以肯定中國有duv 浸潤機
光刻机和工艺不是一回事，生产8nm的工艺不是就要8nm的光刻机。两都不是一个概念。
@@华夏蒲公英 工信部公佈中國光刻機做到套刻細於8nm製程，即代表可用多重曝光技術做到8nm以下芯片。
國外各大媒體故意不提，華為 巳能製造等5nm 等效芯片在pura 70 pro 手機上，路途社，彭博，日本半導體研究公司亦巳証實該晶片並不是用asml機製造。如果中國不是用自己生產的光刻機製造，難道是從天上掉下來？
@@华夏蒲公英中國工信部公宣的光刻機就是可用專利「自對準多重案化(SAQP）做出低於8納米的芯片。
@@bphau9313 他是寫套刻 不是多重曝光，所以不可能8，14都難
技术不只一条路线，中国的核弹就与美国不是一条技术路线。
EUV現在有兩個單位在研發，一個是華為海思，另一個是上海微，中國的研發資源夠多，所以可以啟動兩個研發中心平行開發
远不止两家吧，起码还有长春光机所
@@lsynder 那應該跟蔡司一樣只做鏡頭
@@hyy3657 还有EUV光源
28纳米工艺水准 這是10年前？20年前的就已达到？
是浸润5nm
th-cam.com/video/3UmWqtmpljA/w-d-xo.htmlsi=4WId0jNtRcoYoiXD
最方便的判断方法是，同类芯片，1立方毫米多少亿晶体管
大哥大水平了，不錯了
大概是asml的20年前水平，加油吧
都说了跟asml2017年推出的设备水准一致，这是20年？
知道前面的路怎么走肯定快啊。和原子弹一样。
原子彈是自己摸出來的，元勛有說過，但是光刻專利是繞不過，知道反而難做。
真正有重大突破的那一期标题就偏不写重大突破。。。XD
好文👍👍👍👍👍👍
多年前上海微就有90nm 光刻機，只是放在各廠調適大家都不愛用，現在這台是32nm級別，大概率一樣是廠商不愛用，Euv整個光學系統都不同，反射式透鏡等，我敢說中國30年都造不出來
话说太早，有需求就会有人去研发。以前不用是有的选，现在是没得选，必须用。
韭菜敢说有什么用？张口就来的键盘侠，上次7nm没出来时，你是不是也敢说30年造不出7nm？😂
euv好解决，等着就行了，光光源国内就整了好几条技术路线
你高兴就行
你算哪根葱？
我以为我们的光刻机早就可以制造28纳米了
這個光刻機可以拿去故宮展示了😂
西方人的思维太直接了，我怕你崛起我就禁止你，我怕你造出先进的设备于是我就不卖你先进的设备，这就导致中国自主生产，最后后来者居上（这样的事情太多了）。中式思维是这样的，我怕你造出更好的，于是我就低价卖给你好的，使得你沉溺在蜜罐里，根本没想着自力更生这回事，你永远都在我后面，比尔盖茨就是这么说的，如果她们一定要用盗版，我希望他们用我的盗版。这真是可怕的思维，还好西方人普遍直肠子，不懂这种“阳谋”，不然中国永无出头之日。中国有句古话：倘使我有二顷良田，安能身配六国相印。
真的想多了，差的远着呢哈哈哈
这期有一个基础性的错误 导致结论完全错误 在计算28nm节点 overlay budget 时候 需要用28nm节点的三极管的opo spec， 就是说应该是28/2 * 0.25 = 3.5nm。 远小于8nm。 所以不能用来做28nm芯片生产。这也是业内的常识了。 大刘一知半解闹了个大笑话
你猜长江存储现在用的什么？
@@yinweiwang8677 你猜长江存储用的什么光刻机
@@Listentobaibai888 半導體分析機構TechInsights在長江存儲的一款固態硬體（SSD）產品當中，發現採用新一代Xtacking4.0儲存架構的3D NAND。
不過相較之前的Xtacking3.0 NAND，其層數減少70層，這可能反映出長江存儲因為使用良率較低的中國國產設備，而在產品規格上不得不做出的妥協。
@Listentobaibai888你猜为什么长江存储董事长为什么公开发生让阿斯麦回购光刻机?
@@dylan-tv8vz 打嘴炮谁不会 看看产线就知道了。你猜现在长江存储用的是什么光刻机？ 国产的嘛？
能自主制造光刻机的也只有中国，叠代估计这很快
PURA70是不公开的表明中国又更先进的DUV光刻机了。因为找不到ASML的对准标记，现有光刻机都无法对的上。
其实该制裁的都制裁了，感觉战忽也没什么用了，该来怎么来把。
加油🇨🇳
no, overlay is very important, but chinese new lathography machine is only 8nm, asml can reach 1.5nm, nikon can be 2.5nm.
对呀，但是别人的再先进与你有啥关系？
是浸润5nm
th-cam.com/video/3UmWqtmpljA/w-d-xo.htmlsi=4WId0jNtRcoYoiXD
能够做到28Nm 全国产化， 美国都做不到吧。
他不行啊，成本可能過高了
青蛙又要破防了
它们有资格吗？他们说我们居然有脸说我们拼装组装，我也是笑了，他们从头到尾全程拼装组装货，说别人倒是一点不脸红
别高抬它们了，还青蛙，顶多是个癞蛤蟆和青蛙的混合体，无脊椎又丑又爱叫，哈哈~
不要問水不水
就問你服不服
看着就覺得無聊，從來都沒有自己的新突破，都是追着別人的尾巴去復刻，對着來做，當然比創新方做得快。
别人怎么不复刻，是不想吗？❤
手机薄点厚点影响不大，只要关注导弹需要几纳米的芯片，其他的慢慢来。毕竟谁也做不到0纳米，领先再多不也得等着。
进入推广目录，说明相关设备 至少在产线验证过 两到三年 ....应该不是最新的技术了
還沒有到28nm 水平啦！
不喜欢大刘的视频，很多基于推测，不够专业，还是喜欢业界的专业人士视频，例如问题先生
這是科普的
大刘你老实告诉大家，你有啥是不懂不会讲的？你怎么好像说啥都头头是道像个专家似的？简直神了！俺听不懂，但是听了也挺兴奋的！
台灣台積電2011發明28奈米，明年2025 量產2奈米😂😂😂
台湾之光, 台湾代工龙头(台积电)从来不生产半导体制造设备, 自从中国中微半导体制造设备公司购买28纳米半导体制造设备以来，一直延续到7纳米半导体制造设备来生产芯片。目前台积电在中国南京12英寸晶圆厂已装备中国中微半导体7纳米半导体制造设备来为苹果，三星，华为等生产芯片。 自14纳米半导体制造设备以来，联电已从中国中微半导体制造设备公司购买半导体制造设备。 2017年中国中微半导体掌握5纳米刻蚀机技术！ 2018年销售5纳米半导体制造设备。 中国中微半导体将销售台积电5纳半导体制造设备，甚至3.5纳米半导体制造设备。
当全世界都将目光投向华为，关注孟晚舟的时候，上海突然传来大消息，让国人为之振奋，让世界为之震撼：经台积电验证，中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机，性能优良，将用于全球首条5纳米芯片制程生产线。
好厉害台湾造2纳米光刻机😂👍
@@dylan-tv8vz 中國除了酸，就沒了，也只能酸，2奈米中國人作不到😂😂😂
好腻害的呢，台积电居然造出了2米光刻机，我牙好酸
你的話能信，你都能吃矢了好嗎😂
你去吃好了呀，我国凭一国之力造出光刻机，就是那么牛逼。怎么啦你酸呐！😂
人家在苹果官宣放弃电动车一年至前就有理有据地预言了，做的视频涉及物理工程的方方面面，还是你这种小喽喽能理解的
我认为任重道并不远，用不了3年前更好的光刻机就会出来，10年之内EUV也将出世
日本半導體研究技術說中國芯片技術比最先進程只差三年，看來你比專家更在行
@@bphau9313 制成是差不多三年但设备的话可能稍微久一点
@@大汉忠臣曹孟德 那華為 pura 70 pro 芯片是用什麼光刻機製造呢？路透社，彭博，日本半導體研究公司說不是用 asml 機製造。天掉下來的？
@@bphau9313 应该是华为改造版的duv afr干式光刻机，相比浸润式有一定的性能差距，不过我觉得浸润式光刻机很快也会出来。现在我们是使用稍微弱一点的装备通过黑科技加成弄出先进制成。我感觉可能成本会高一点。
@@bphau9313 就比如说，虎式坦克一炮可以轰掉t34，那我找个卡车底盘，装一门88炮，也同样可以做到
🎉🎉🎉🎉🎉🎉🎉🎉🎉🎉🎉😊
瑞立判据这个公式就是个经验公式，不足为信的
這純粹的數學好吧，也太離譜
这就？😂任重道远，道阻且长
这个是从0到1
不停抄襲，從未超越