Introduction to Atomic Layer Deposition

แชร์
ฝัง
  • เผยแพร่เมื่อ 30 ก.ย. 2024

ความคิดเห็น • 1

  • @kuheliroybarman4179
    @kuheliroybarman4179 3 ปีที่แล้ว

    Hi! Can ALD be used to experimentally grow 2 nm gate oxide of SiO2/Si3N4/HfO2 on the Silicon substrate?
    ....If yes, can you please suggest few supporing articles regarding that?