* 이름, 기술, 설명 등은 추후 변경될 수 있습니다. - 이름: 하이든 어비스 - 착용 캐릭터: 안드로이드 제외 전체 캐릭터 - 능력치 변화: 변화 없음 - 설명: 심연 속 감춰진 금기된 마법. - 기술: V 점프 D 대쉬 Co 반격 B 달리는 도중 멈춤 변화하는 기술 사슬 해방 전 기술 ● 대시를 사용할 수 없습니다. ● 점프를 사용할 수 없습니다. ● 대미지를 그대로 받는 하이퍼아머 상태입니다. 사슬 해방 전 특수 효과 상대에게 대미지를 입히거나 대미지를 입게 되면 심연 게이지가 +10%씩 상승하게 되며, 심연 게이지가 +10%씩 상승할 때마다 어둠 속성 공격과 내성이 +5%만큼 추가로 증가합니다. 상대에게 입히는 대미지 또는 받는 대미지에 따라서 심연 게이지의 상승량이 추가로 증가합니다. 심연 게이지가 100%에 달성하면 사슬에서 해방되게 되며, 어둠 속성 공격과 내성은 최종적으로 +50%만큼 추가로 상승한 상태가 됩니다. 추가적으로 사용자의 모든 능력치가 +5만큼 증가합니다. V 타겟을 방향 조작으로 위치로 이동하는 기술입니다. 이동 시 오브젝트는 통과하지 못합니다. Z+V 조준한 상대 배후로 워프하는 기술입니다. MP를 2.1 소비합니다. C→C→C 구체를 3회에 걸쳐 전방으로 방출하는 기술입니다. 구체는 전방의 상대를 추격하는 효과가 있습니다. 1, 2회째 공격은 상대를 넘어트리지 않고, 3회째 공격은 상대를 밀쳐 넘어트리는 공격 효과가 있습니다. X→X 구체를 휘둘러 전방을 공격 후 띄워 올리는 기술입니다. Z+C 조준한 위치에 구체를 배치하는 기술입니다. 조준된 상대가 없다면, 사용자 전방에 배치됩니다. 배치된 구체 주변에 있는 상대의 HP와 MP를 지속적으로 감소시킵니다. 배치 후 재사용 시 기존 구체가 사라지고, 새롭게 배치됩니다. MP를 2.1 소비합니다. (Z+C 기술로 구체 배치 후 Z→Z) 배치된 구체를 회수하는 기술입니다. MP를 소비하지 않습니다. (Z+C 기술로 구체 배치 후 Z+X) 배치된 구체에 강력한 증폭 폭발을 발생시키는 기술입니다. 폭발중에는 Z→Z, Z+C 기술을 사용할 수 없습니다. 폭발 종료 후에는 구체가 사라집니다. 기술 발동 중 재사용할 수 없습니다. MP를 2.1 소비합니다. Z+X 사용자 주변으로 강력한 어둠을 압축하여 폭발시키는 단타 기술입니다. 기술 사용 후 일정시간이 지나면 무적 상태가 됩니다. Z+C 기술로 구체가 배치된 상태에서는 사용하실 수 없습니다. MP를 3.0 소비합니다. Z+XC 조준한 위치에 금단의 영역을 전개시키는 기술입니다. (설치된 영역은 일정 대미지를 받으면 파괴됩니다.) 영역은 약 15초간 지속되며, 주변의 상대를 끌어당기는 효과가 있습니다. 영역은 최대 5개까지 설치할 수 있습니다. MP를 3.0 소비합니다. 커맨드(앞→뒤→앞)+C 심연의 포탈 2개를 설치하여 자유롭게 이동하는 기술입니다. 심연의 포탈은 사용자와 아군이 사용할 수 있습니다. 적군은 사용할 수 없고 포탈에 닿게되면 피해를 받게됩니다. MP를 2.1 + 2.1 소비합니다. 사슬 해방 후 기술 ● 모든 능력치가 +5만큼 증가합니다. ● ★ 표시가 된 기술 명중 시 지속적으로 HP를 감소시킵니다. ※ HP 감소 효과로 HP를 0으로 만들 수 있습니다. ※ 이 효과는 15초 동안 유지됩니다. C→C→C 구체를 3회에 걸쳐 전방으로 방출하는 기술입니다. 구체는 전방의 상대를 추격하는 효과가 있습니다. 1, 2회 째 공격은 상대를 넘어트리지 않고, 3회 째 공격은 상대를 밀쳐 넘어트리는 공격 효과가 있습니다. X→X 구체를 휘둘러 전방을 공격 후 띄워 올리는 기술입니다. D+C 2개의 구체를 전방으로 방출하는 기술입니다. 구체는 전방의 상대를 추격하는 효과가 있습니다. D+X 구체와 함께 회전 공격 후 어둠 폭발을 발생시키는 기술입니다. 기술 사용 중 이동 방향을 변경할 수 있습니다. V+C 라이벌 캐릭터의 무릎치기 공격입니다. 일반 및 퓨전 캐릭터가 착용해도 무릎치기 공격을 사용합니다. V+X 구체를 대각선 아래 방향으로 방출하는 기술입니다. Z+C 조준한 위치에 구체를 배치하는 기술입니다. 조준된 상대가 없다면, 사용자 전방에 배치됩니다. 배치된 구체 주변에 있는 상대의 HP와 MP를 지속적으로 감소시킵니다. 배치 후 재사용 시 기존 구체가 사라지고, 새롭게 배치됩니다. MP를 2.1 소비합니다. (Z+C 기술로 구체 배치 후 Z→Z) 배치된 구체를 회수하는 기술입니다. MP를 소비하지 않습니다. (Z+C 기술로 구체 배치 후 Z+X ★) 배치된 구체에 강력한 증폭 폭발을 발생시키는 기술입니다. 폭발중에는 Z→Z, Z+C 기술을 사용할 수 없습니다. 폭발 종료 후에는 구체가 사라집니다. 기술 발동 중 재사용할 수 없습니다. MP를 2.1 소비합니다. Z+X ★ 사용자 주변으로 강력한 어둠을 압축하여 폭발시키는 단타 기술입니다. 기술 사용 후 일정시간이 지나면 무적 상태가 됩니다. Z+C 기술로 구체가 배치된 상태에서는 사용하실 수 없습니다. MP를 3.0 소비합니다. D+XC(모으기) ★ 사용자 후방에 상대를 탐지하는 구체를 최대 5회에 걸쳐 생성하는 기술입니다. 생성된 구체는 주변 상대를 탐지하여 추격 후 공격합니다. 구체는 모으기를 사용하여 최대 5개 생성할 수 있고, 5개 이상 설치 시 설치가 오래된 구체부터 사라집니다. 구체 생성 시 마다 MP를 0.5씩 소비합니다. V+XC ★ 적군 위치에 금단의 영역을 전개시키는 기술입니다. (설치된 영역은 일정 대미지를 받으면 파괴됩니다.) 적군 인원에 제한 없이 설치가 가능하고, 재사용 시 이전 설치된 영역이 제거됩니다. 영역은 약 15초간 지속되며, 주변의 상대를 끌어당기는 효과가 있습니다. MP를 3.0 소비합니다. Z+XC ★ 전방의 상대를 타겟 후 구속 저주를 전개하는 기술입니다. 구속 저주에 명중된 상대는 사슬에 속박되어 공격을 받게됩니다. 전방의 상대 최대 5명까지 구속 저주를 부여할 수 있습니다. 구속 인원에 영향 없이 기술 명중 시 사용자는 고정적으로 HP와 MP를 회복합니다. HP, MP는 최대 이상으로 회복하지 않습니다. 해당 기술은 방어할 수 없습니다. MP를 3.0 소비합니다. 커맨드(앞→뒤→앞)+C 심연의 포탈 2개를 설치하여 자유롭게 이동하는 기술입니다. 심연의 포탈은 사용자와 아군이 사용할 수 있습니다. 적군은 사용할 수 없고 포탈에 닿게되면 피해를 받게됩니다. MP를 2.1 + 2.1 소비합니다. 커맨드(앞→뒤→앞)+X 구속의 포탈을 2개 설치하여 연결된 사슬 영역을 공격하는 기술입니다. 약 30초간 지속되며, 재설치를 하거나 시간이 경과되면 제거됩니다. MP를 2.1 + 2.1 소비합니다. 커맨드(앞→뒤→앞)+XC 조준한 상대를 강력한 심연의 폭발과 함께 제거하는 기술입니다. 해당 기술은 각성 후 1회만 사용할 수 있는 기술입니다. 기술 사용 시 즉시 무적 효과가 발생합니다. MP를 4.2 소비합니다. * 테스트 서버에서 테스트 중인 사항은 테스트 진행이나 결과에 따라 얼마든지 변경될 수 있습니다.
![[KOR] Getamped test server epic Accessories Analysis = [ 포세이돈 스피릿 ] 분석](http://i.ytimg.com/vi/QPioqCM2Zw8/mqdefault.jpg)
![[KOR] Getamped test server epic Accessories Analysis = [ 포세이돈 스피릿 ] 분석](/img/tr.png)
![[KOR] Getamped test server Accessories Analysis = [ 네크로맨서 ] 분석](http://i.ytimg.com/vi/6XphYJIAcns/mqdefault.jpg)
![[KOR] Getamped test server Accessories Analysis = [ 카오스 프래그먼트 ] 분석](http://i.ytimg.com/vi/S3gO-9IxfEY/mqdefault.jpg)
![[UNCUT] ฝันรักห้วงนิทรา | EP.9 (3/4)](http://i.ytimg.com/vi/ikd1tEhXbp8/mqdefault.jpg)
![[KOR] Getamped test server Accessories Analysis = [ 커스드 네일 ] 분석](/img/n.gif)
남은 것은 두개
하이든 어비스 기술표 ▼
* 이름, 기술, 설명 등은 추후 변경될 수 있습니다.
- 이름: 하이든 어비스
- 착용 캐릭터: 안드로이드 제외 전체 캐릭터
- 능력치 변화: 변화 없음
- 설명: 심연 속 감춰진 금기된 마법.
- 기술: V 점프 D 대쉬 Co 반격 B 달리는 도중 멈춤
변화하는 기술
사슬 해방 전 기술
● 대시를 사용할 수 없습니다.
● 점프를 사용할 수 없습니다.
● 대미지를 그대로 받는 하이퍼아머 상태입니다.
사슬 해방 전 특수 효과
상대에게 대미지를 입히거나 대미지를 입게 되면 심연 게이지가 +10%씩 상승하게 되며,
심연 게이지가 +10%씩 상승할 때마다 어둠 속성 공격과 내성이 +5%만큼 추가로 증가합니다.
상대에게 입히는 대미지 또는 받는 대미지에 따라서 심연 게이지의 상승량이 추가로 증가합니다.
심연 게이지가 100%에 달성하면 사슬에서 해방되게 되며,
어둠 속성 공격과 내성은 최종적으로 +50%만큼 추가로 상승한 상태가 됩니다.
추가적으로 사용자의 모든 능력치가 +5만큼 증가합니다.
V
타겟을 방향 조작으로 위치로 이동하는 기술입니다.
이동 시 오브젝트는 통과하지 못합니다.
Z+V
조준한 상대 배후로 워프하는 기술입니다.
MP를 2.1 소비합니다.
C→C→C
구체를 3회에 걸쳐 전방으로 방출하는 기술입니다.
구체는 전방의 상대를 추격하는 효과가 있습니다.
1, 2회째 공격은 상대를 넘어트리지 않고,
3회째 공격은 상대를 밀쳐 넘어트리는 공격 효과가 있습니다.
X→X
구체를 휘둘러 전방을 공격 후 띄워 올리는 기술입니다.
Z+C
조준한 위치에 구체를 배치하는 기술입니다.
조준된 상대가 없다면, 사용자 전방에 배치됩니다.
배치된 구체 주변에 있는 상대의 HP와 MP를 지속적으로 감소시킵니다.
배치 후 재사용 시 기존 구체가 사라지고, 새롭게 배치됩니다.
MP를 2.1 소비합니다.
(Z+C 기술로 구체 배치 후 Z→Z)
배치된 구체를 회수하는 기술입니다.
MP를 소비하지 않습니다.
(Z+C 기술로 구체 배치 후 Z+X)
배치된 구체에 강력한 증폭 폭발을 발생시키는 기술입니다.
폭발중에는 Z→Z, Z+C 기술을 사용할 수 없습니다.
폭발 종료 후에는 구체가 사라집니다.
기술 발동 중 재사용할 수 없습니다.
MP를 2.1 소비합니다.
Z+X
사용자 주변으로 강력한 어둠을 압축하여 폭발시키는 단타 기술입니다.
기술 사용 후 일정시간이 지나면 무적 상태가 됩니다.
Z+C 기술로 구체가 배치된 상태에서는 사용하실 수 없습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+XC
조준한 위치에 금단의 영역을 전개시키는 기술입니다. (설치된 영역은 일정 대미지를 받으면 파괴됩니다.)
영역은 약 15초간 지속되며, 주변의 상대를 끌어당기는 효과가 있습니다.
영역은 최대 5개까지 설치할 수 있습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+C
심연의 포탈 2개를 설치하여 자유롭게 이동하는 기술입니다.
심연의 포탈은 사용자와 아군이 사용할 수 있습니다.
적군은 사용할 수 없고 포탈에 닿게되면 피해를 받게됩니다.
MP를 2.1 + 2.1 소비합니다.
사슬 해방 후 기술
● 모든 능력치가 +5만큼 증가합니다.
● ★ 표시가 된 기술 명중 시 지속적으로 HP를 감소시킵니다.
※ HP 감소 효과로 HP를 0으로 만들 수 있습니다.
※ 이 효과는 15초 동안 유지됩니다.
C→C→C
구체를 3회에 걸쳐 전방으로 방출하는 기술입니다.
구체는 전방의 상대를 추격하는 효과가 있습니다.
1, 2회 째 공격은 상대를 넘어트리지 않고,
3회 째 공격은 상대를 밀쳐 넘어트리는 공격 효과가 있습니다.
X→X
구체를 휘둘러 전방을 공격 후 띄워 올리는 기술입니다.
D+C
2개의 구체를 전방으로 방출하는 기술입니다.
구체는 전방의 상대를 추격하는 효과가 있습니다.
D+X
구체와 함께 회전 공격 후 어둠 폭발을 발생시키는 기술입니다.
기술 사용 중 이동 방향을 변경할 수 있습니다.
V+C
라이벌 캐릭터의 무릎치기 공격입니다.
일반 및 퓨전 캐릭터가 착용해도 무릎치기 공격을 사용합니다.
V+X
구체를 대각선 아래 방향으로 방출하는 기술입니다.
Z+C
조준한 위치에 구체를 배치하는 기술입니다.
조준된 상대가 없다면, 사용자 전방에 배치됩니다.
배치된 구체 주변에 있는 상대의 HP와 MP를 지속적으로 감소시킵니다.
배치 후 재사용 시 기존 구체가 사라지고, 새롭게 배치됩니다.
MP를 2.1 소비합니다.
(Z+C 기술로 구체 배치 후 Z→Z)
배치된 구체를 회수하는 기술입니다.
MP를 소비하지 않습니다.
(Z+C 기술로 구체 배치 후 Z+X ★)
배치된 구체에 강력한 증폭 폭발을 발생시키는 기술입니다.
폭발중에는 Z→Z, Z+C 기술을 사용할 수 없습니다.
폭발 종료 후에는 구체가 사라집니다.
기술 발동 중 재사용할 수 없습니다.
MP를 2.1 소비합니다.
Z+X ★
사용자 주변으로 강력한 어둠을 압축하여 폭발시키는 단타 기술입니다.
기술 사용 후 일정시간이 지나면 무적 상태가 됩니다.
Z+C 기술로 구체가 배치된 상태에서는 사용하실 수 없습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
D+XC(모으기) ★
사용자 후방에 상대를 탐지하는 구체를 최대 5회에 걸쳐 생성하는 기술입니다.
생성된 구체는 주변 상대를 탐지하여 추격 후 공격합니다.
구체는 모으기를 사용하여 최대 5개 생성할 수 있고,
5개 이상 설치 시 설치가 오래된 구체부터 사라집니다.
구체 생성 시 마다 MP를 0.5씩 소비합니다.
V+XC ★
적군 위치에 금단의 영역을 전개시키는 기술입니다. (설치된 영역은 일정 대미지를 받으면 파괴됩니다.)
적군 인원에 제한 없이 설치가 가능하고, 재사용 시 이전 설치된 영역이 제거됩니다.
영역은 약 15초간 지속되며, 주변의 상대를 끌어당기는 효과가 있습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+XC ★
전방의 상대를 타겟 후 구속 저주를 전개하는 기술입니다.
구속 저주에 명중된 상대는 사슬에 속박되어 공격을 받게됩니다.
전방의 상대 최대 5명까지 구속 저주를 부여할 수 있습니다.
구속 인원에 영향 없이 기술 명중 시 사용자는 고정적으로 HP와 MP를 회복합니다.
HP, MP는 최대 이상으로 회복하지 않습니다.
해당 기술은 방어할 수 없습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+C
심연의 포탈 2개를 설치하여 자유롭게 이동하는 기술입니다.
심연의 포탈은 사용자와 아군이 사용할 수 있습니다.
적군은 사용할 수 없고 포탈에 닿게되면 피해를 받게됩니다.
MP를 2.1 + 2.1 소비합니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+X
구속의 포탈을 2개 설치하여 연결된 사슬 영역을 공격하는 기술입니다.
약 30초간 지속되며, 재설치를 하거나 시간이 경과되면 제거됩니다.
MP를 2.1 + 2.1 소비합니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+XC
조준한 상대를 강력한 심연의 폭발과 함께 제거하는 기술입니다.
해당 기술은 각성 후 1회만 사용할 수 있는 기술입니다.
기술 사용 시 즉시 무적 효과가 발생합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
* 테스트 서버에서 테스트 중인 사항은 테스트 진행이나 결과에 따라 얼마든지 변경될 수 있습니다.
玩這個'裝備其他人˙就不用玩了XD